KARAKTERISTIK MORFOLOGI DAN OPTIK FILM TIPIS TiO2:Co YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE MOCVD DI ATAS SUBSTRAT SILIKON

Iing Mustain
Jurusan pendidikan Fisika, Universitas Pendidikan Indonesia, Bandung

ABSTRAK

Telah dilakukan karakterisasi film tipis TiO2:Co yang ditumbuhkan dengan metode MOCVD di atas substrat silikon dengan temperatur penumbuhan yang bervariasi. Karakterisasi meliputi morfologi, karakteristik optik, kekristalan, dan sifat kemagnetan dengan menggunakan Scanning Electron Microscope (SEM), Photoluminescence (PL), X-Ray diffractometer (XRD), dan Vibrating Sample Magnetometer (VSM). Hasil karakterisasi menunjukkan bahwa morfologi film sangat dipengaruhi oleh temperatur penumbuhan yang digunakan. Morfologi film terbaik terjadi pada film yang ditumbuhkan dengan temperatur 450oC, yang ditandai dengan butiran kristal yang tersebar merata dan kompak membentuk ketebalan film yang merata. Pola pertumbuhan butiran berbentuk kolumnar. Kehadiran atom-atom Co dalam film ditandai dengan adanya pergeseran nilai celah pita energi dari celah pita energi bahan dasarnya TiO2. Sampel film TiO2:Co yang ditumbuhkan dengan temperatur penumbuhan 450oC memiliki orientasi kristal tunggal dengan struktur kristal anatase pada bidang (213). Film ini menunjukkan sifat ferromagnetik yang tergolong bahan magnet lunak (soft magnetic) yang ditandai dengan nilai koersifitas sekitar 100 Oersted.

Kata kunci: Morfologi, Opik, MOCVD, TiO2:Co, temperatur penumbuhan

Download Jurnal